Type de fibre | Fibre de silice |
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Couleur de Paintcoat | Aqua, jaune, noir ou d'autres |
La capacité de mémoire a sonné | 10 microns à 1500 microns |
NAs Range | 0,12 à 0,5 |
Diamètre de tampon | 0,25 millimètres, 0.9mm, 3.0mm |
Nom | Fibre nue/Fibre radiale |
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Diamètre de la fibre | Pour les appareils à commande numérique |
Longueur | 3 mètres de long |
Couleur | Gris blanc |
Longueur d'onde | 980nm/1470nm |
Type de fibre | 400-2500 nm Fibre infrarouge proche visible près |
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Matériel | La pureté du verre |
Application du projet | Région infrarouge proche NIR |
Type A | 600-660-900um |
Type B | H500/550/ 900-22-AC Pour les produits de base |
Nom | Fibres MM au noyau carré |
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Utilisation | Fibre optique à laser nue |
Dia du noyau de fibre (mm) | 100 ou 600 mm |
Seuil de dommages au laser pour le laser CW CO2 | > 12 kW/cm2 |
Couleur | aucune couleur |
Nom | Fibre nue/Fibre radiale |
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Diamètre de la fibre | Pour les appareils à commande numérique |
Longueur | 3 mètres de long |
Couleur | Gris blanc |
Longueur d'onde | 350 nm à 2500 nm (fibre optique IR) |
Bend Radius | 10 Times The Outer Diameter |
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Coating Type | Dual-layer, UV-acrylate |
Color | No Color |
Purpose | Box For Fiber Optic Protection |
Model Name | HCW227/250 |
Bend Radius | 10 Times The Outer Diameter |
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Leadtime | 30 Days For Customized Bare Fibers |
Fiber Preform | Optical Fiber G652D Preform |
Core Size Rang | 10 Microns To 1500 Microns |
Packing Size | 28*20*8cm |
Material | Silicon |
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Leadtime | 30 Days For Customized Bare Fibers |
Fiber Preform | Optical Fiber G652D Preform |
Packing Size | 28*20*8cm |
Color | No Color |
Core Size Rang | 10 Microns To 1500 Microns |
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Coating Type | Dual-layer, UV-acrylate |
Packing Size | 28*20*8cm |
Cable Length | 1000 Meters |
Purpose | Box For Fiber Optic Protection |
Description | La grande dispersion positive de capacité élevée de secteur efficace a décalé la fibre unimodale |
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Type de fibre | G655C |
atténuation 1625nm | 0,24 DB/Km |
atténuation 1550nm | 0,22 dB/km |
Processus de G655Fibers | construit utilisant le plasma avancé a activé le procédé de la déposition en phase vapeur (PCVD) |